ミリ波発振照射加熱装置 他

放電プラズマ焼結(SPS)技術をはじめとするSPSパルス通電プロセスは、焼結プロセスだけではなく、接合、表面改質、合成プロセスなど各種加工法を包含しており、機械装置系では真空技術・プレス機械技術・制御技術・温度計測技術など、多岐にわたる技術と密接に関わった複合技術です。当社SPSセンターでは、 SPS装置だけでなく、焼結技術と真空技術と固相拡散接合技術をベースにした様々な新しい材料合成装置のご提案をいたします。


※改良のため下記仕様は予告無く変更される場合があります。

ミリ波発振照射加熱装置 GYHE 3/24

ジャイロトロン発振管(水冷)
周波数24±0.5GHz最高電圧 15kV
最大出力3.0kW 連続波最大電流1.0A
制御範囲0.2-3.0kW出力口内径φ32.6mm
電子銃ダイオードタイプ発振モードTE11

MSP社製ミリ波焼結装置は、従来品に比べ、性能・コストパフォーマンス・操作性の面で優れております。本装置はサイクロトロン反応原理を応用したジャイロトロン発振を基本にしており、非常に周波数の高いマイクロ波発振が可能で、サブミリ波からTHz領域まで発振できます。また、電子ビームの回転半径を大きく取ることができるため、サブミリ波領域でもkWレベルの発振が可能です。他のマイクロ波発振器と比べて周波数、出力の点で一桁高い領域での動作が可能です。SPS装置と同じく、低温焼結・均一焼結・粒成長の抑制・難焼結材の焼結などに効果を発揮し、接合分野への応用も可能です。焼結型を使用せず、ネットシェイプが可能など、SPSとは異なる特徴も有しております。

ベルジャー型蒸着装置 SEV-100

蒸着源2kw3連電子銃 980-7104(ANELVA)
抵抗加熱ボート
外観寸法本機 : 1500W×500D×1550H
電子銃操作盤 : 500W×500D×1200H
基板サイズφ150
制御系高真空排気 チャンバリーク
蒸着操作 基板シャッター操作
全て手動
排気系粗引きロータリーポンプ : 排気速度 250L/min
到達圧力 2x10-1Pa
高真空ターボ分子ポンプ : 排気速度 220L/S
到達圧力 1×10-6Pa
ユーティリティー電力3相 AC200V-50A
4L/min

実験用の小型蒸着装置です。操作部と装置本体を一体化することにより、省スペースで設置することができます。蒸着源は2kw 3連電子銃と抵抗加熱ボートを 1基ずつ搭載しており、同時使用も可能です。抵抗加熱による有機EL蒸着も可能で、蒸着源間のコンタミネーション防止のためにシールド板が設けてあります。チャンバー内壁にもシールド板が設けてあり、容易に交換することができます。


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