ミリ波加熱技術

ミリ波加熱技術(ミリ波プロセッシング技術)

ミリ波発振照射加熱装置の装置販売ならびに受託開発、テスト(試作、試験)を行っております。

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装置販売

受託開発

テスト(試作、試験)

立命館大学BKCインキュベータ
立命館大学BKCインキュベータに入居し、
ミリ波加熱技術の開発を行っています。
(問い合せ先)TEL: 0774-65-4008 E-Mail: info⑨njs-japan.co.jp (⑨→半角@に変更下さい)

ミリ波プロセッシング技術とは


ミリ波プロセッシング技術とは、周波数が約20GHz~300GHzの電磁波を対象物に照射し、対象物内部の分子運動(双極子の回転・振動)とイオン伝導などによって熱を発生させる技術です。電子レンジなど従来のマイクロ波加熱では難しかったセラミックスや金属の加熱等(焼結、接合、合成、表面改質)がミリ波プロセッシングでは可能です。 従来法では困難であった材料やプロセスにおいて、効果を発揮し、優れた特性を有する材料を創製可能な技術です。


特 長


内部加熱(試料の自己発熱)


高速加熱


電場・磁場による非熱的効果


選択加熱


複雑形状化が容易(型不要)


  高密度化(残留気孔の低減)が容易
焼結、接合温度の低温化
プロセスの短時間化
局所加熱が可能
組織の微細化(粒成長抑制)
粒界制御が容易
均一加熱が可能
粒子表面の活性化
拡散促進
液相での粘性低下
特異な化学反応(結晶/非晶質化、還元作用等)
熱衝撃の抑制
蒸発、溶融の抑制

対象プロセスと対象材料


対象プロセス:焼結、接合、合成、表面改質など
対象材料:セラミックス、金属、複合材料など

ルビーグラス
ルビーグラス
AlN放熱材 AlN放熱材

チタン多孔質体
 

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